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轉發自：工程科技與產業發展 科技經濟導刊 2017.27期

作者：王成新

（濟南市半導體元件實驗所 山東 濟南 250013）

摘 要：文章基于引線框架沖壓模具作為主要案例，對沖壓過程中出現的料帶變形的原因進行了分析，提出了在模具生產過程中料帶變形的解決方法及原理。

關鍵詞：引線框架；料帶變形；改進方式

中圖分類號：TU323.5 文獻標識碼：C 文章編號：2096-1995(2017)27-0072-02

引線框架的主要作用就是在實際中通過提供半導體封裝中的芯片與對外的電路進行鏈接操作，同時其可以為后續的相關載體零件的制作提供支持，如果在實際中沒有對料帶變形進行嚴格的控制與管理，就會直接的降低實際的質量，生產過程也不會穩定順暢，無法進行大批量的制件生產。

1 引線框架變形原因探究

在實際中較為普遍的引線框架變形問題為料帶 TWIST料帶扭曲變形、料帶CAMBER料帶側邊弧形變形以及料帶CROSSBOW料帶短邊弓狀變形，出現這些變形問題的主要原因就是因為引線框架在實際中因為其每只腳相對較為細長，在實際中必須要綜合模具的實際強度以及具體的壽命曲線，其中每只腳的形狀必須要基于相關順序對其進行沖切操作，避免一次性的全部沖出，這樣就會產生一定的內應力，同時在凸模中也會產生一定的內應力，這些內應力就會直接導致沖壓框架制件料帶的變形問題。

2 引線框架變形修正多工位級進模結構設計首先，引線框架變形的CROSSBOW修正、 CAMBER修正以及TWIST修正的相關修正機構的具體結構形式以及實際的安裝方式較為相似，只是外形的尺寸有所區別，其具體結構形式具體如下圖。

其次，模具零件的安裝。一號脫料(改進后多工位級進模結構圖)修正鑲件在實際中主要就是在脫料板的A5中的線割型腔中進行安裝；而二號凹模修正鑲件，三號平墊塊,五號斜面墊塊則是主要就是在凹模板A6中的線割型腔中進行安裝操作；七號推桿則是在下墊板A7中的底面磨槽中進行安裝; 八號固定塊通過就好螺釘在下模座A8中表面進行鎖緊。

最后，相關零件的實際工作流程：圖七號推桿與四號斜面墊塊之間要將其設計為斜面嚙合的形式；而在七號推桿以及八號固定塊之間則通過十、十一號螺釘組進行鏈接，并且保障其可以互相調節鎖緊。二號凹模修正鑲件通過六號螺釘與下模座A8進行鎖緊；六號螺釘以及下模座A8通過五號彈簧進行鏈接；七號推動推桿則是利用十號螺釘以及十一號螺釘進行前進以及后退操作，七號推桿基于斜面嚙合對四號斜面墊塊進行控制，保障其上下運動，同時也可以保障二號凹模修正鑲件的同步上下運動操作，這樣就可以真正的實現修正料帶變形的效果。五號彈簧與六號螺釘的作用就是有效的避免

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二號凹模修正鑲件跳出模面，同時也可以保障七號推桿以及四號斜面墊塊處于嚙合的狀態之中；二號凹模修正鑲件在整個模具工作中都是始終位于靜止的狀態之中。

3 料帶變形修正原理以及相關部品設計通過對一號修正鑲件以及二號凹模修正件的相關設計對料帶變形修正的原理的分析，論述了相關主要部品脫料的工作原理，其具體如下。

首先，CROSSBOW的修正設計，具體如下圖：在進行2A凹模修正鑲件的表面設計，要保障其表面設計的凸起,在進行1A的脫料修正鑲件的底面的凹槽設計中，要通過凸起以及凹槽設計給整個料帶產生的微小彎曲變形作用，修正CROSSBOW制件的變形問題。同時，要保障其凸起以及凹槽的實際中心位置是一致的性，其中凸起寬度數值為0.3mm，凹槽的寬度數值則為0.9mm。

其次，TWIST的修正設計，具(CROSSBOW修正圖)體如下圖：在編號為（2B,2C）的凹模修正鑲件中要進行表凸設計，其編號為（1B,1C）的脫料修正鑲件的底面則要進行凹槽設計，其中凸起以及凹槽在設計過程中，要保障其水平面與X 軸成45º，這樣可以可以有效的修正料TWIST出現的變形問題。

2B凹模修正鑲件在實際中必須要設計一個配套的 2B備件，在其表面設計凸起，1B脫料修正鑲件底部也要進行凹槽設計，并且配套1B備;2C凹模修正鑲件、 1C脫料修正鑲件也是如此。同時，也要保持這些凹模修正鑲件與X軸呈現成45º角。凸起以及凹槽的中心位置要保持相同，并且要成組應用，基于制件TWISTT 的實際狀況合理的選擇安裝零部件。

科技經濟信息化 科技經濟導刊 2017.27期

最后，CAMBER的修正設計，(TWIST修正圖)具體如圖：在(2D,2E) 凹模修正鑲件的表面設計凸起，其凸起設計要保障在 RAIL的內側，(1D,lE)的脫料修正鑲件要為平面，同時基于凸起狀況對沖壓材料的局部進行輕微打扁操作，并且進而適當的延展材料，這樣可以起到修正制件 CAMBER變形問題的效果。 (下轉P36) 華為Mate 7 采用瑞典FPC公司的FPC1020指紋識別方案 ，該方案是將傳感器置于手機后蓋中，屬于按壓式識別技術。只需要將手機輕輕放在解鎖區域，就能夠進行解鎖。FPC1020指紋模塊由基于艾迪沃德自主指紋芯片QS808指紋模塊和瑞典fpc1020電容指紋傳感器組成。采用的是國際領先的Idworld5.0指紋識別算法。

QS808指紋芯片基于ARM Cortex -M3內核，運行穩定，具有低功耗設計。華為Mate7指紋傳感器的指紋識別區域鑲嵌了一圈環狀金屬。類似于包裹住iphone5s 同樣選擇集成在Home鍵之下，屬于前置型指紋識

別方案。三星Note 4采用的是美國公司Synaptics&

Validity的方案。

三星Note 4采用的是劃擦式的識別模塊。按壓式傳感器的特點是接觸面積大、識別效率高，但模塊的尺寸也比較大，成本也較高。劃擦式則剛好相反，雖然識別指紋效率低一些，但體積可以做小。相較于三星Note

指紋感應區的不銹鋼探測環（Stainless steel detection ring），FPC1020指紋識別方案所要求的識別面積是現階段手機識別區域面積中最大的。考慮到Sensor大小，如果在正面放置指紋識別的Sensor，會顯得比較臃腫。影響手機的美觀。華為Mate 7的手機按鍵區較窄，放在背部則也能實現指紋識別功能，方便性與實用性上也不太差，同時能夠保證正面設計的完整性。所以華為

Mate 7 采用的是背面識別方案。

從2011年04月上市的摩托羅拉Atrix4GME860 成為最早搭載指紋識別技術的智能手機。再到2013 年09月蘋果公司出品的首款帶指紋識別功能的手機 iphone5s。指紋識別技術得到了眾多手機廠商的青睞，搭載指紋識別功能更是成為了智能手機的新亮點。技術層面上，無論是按壓式指紋識別技術還是摩擦式指紋識別技術，都已經從稚嫩蛻變的更加成熟安全。可以預見，